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半导体行业解决方案之蚀刻液分析
来源:waters | 作者:waters | 发布时间: 2024-07-09 | 111 次浏览 | 分享到:

蚀刻液半导体制造流程中重要的化学品**,其配方的成分含量和纯度,对器件的性能具有关键影响。ICP、IR、LC、MS均是常用的分析手段,沃特世专注液相色谱分离(LC)和质谱(MS)检测的分析平台研发,无论是提升日常分析的简易性,还是借助多一维分子量信息进行快速监控,均有对应的色谱质谱技术助力原料放行、配方研发、质控和问题溯源。

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UPLC - QDa液相色谱质谱检测器

蚀刻液中的离子残留,在液相色谱分析中非常容易带来基线的波动和结果的偏差。在PEG组分分析中,质谱检测器(QDa)多一维质荷比的优势,可以助力更好地采集特定离子的谱图信息,降低背景基线干扰,日常质控方法更稳定。




色谱条件
  • 流动相A:0.1%甲酸水

  • 流动相B:甲醇

  • 流速:0.5 mL/min

  • 梯度条件:

    %A 0.00 90.0 10.0

    %B 5.00 90.0 10.0


  • 进样量:10 μL


质谱条件
  • SIR采集:m/z 459.3聚乙二醇400

  • 电离模式:ESI(+)

  • 采样率:10 点/秒

  • 毛细管电压:1.5 kV

  • 锥孔电压:30 V

  • 源内温度:300 ℃


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图1.PEG400 SIR采集色谱图和质谱图(m/z459.36)。

ASAP大气压固体分析探杆


在原料放行和过程分析中,需要把控品质和快速判断批次稳定性,但由于蚀刻液样品中的酸、金属盐等组分,在色谱分离前需要较为复杂的前处理步骤。而借助质谱的直接进样探杆,无需或只需很少的样品前处理,一次性玻璃毛细管蘸取样品插入质谱中进行表征。

该技术Waters SQD2、Xevo家族串联四极杆、四极杆串联飞行时间质谱平台上均可轻松配置,扩展多样化进样分析能力,固体、液体、半固体均可实现质谱直接分析


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图2.ASAP操作流程(蘸取样品 - 插入质谱 - 自动触发采集)。


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图3.利用ASAP快速表征PEG成分(不同供应商比较)。



沃特世质谱平台化的设计理念,让多种类样本分析能力大大提升,轻松应对半导体生产中涉及的各种材料。如您有兴趣了解完整解决方案,


沃特世半导体行业解决方案,涵盖光刻流程中所应用到的化学品分析,从液相色谱分离到高灵敏度质谱表征以及高分辨未知成分定性,提供快速的色谱质谱解决方案。从小分子到大分子,从日常质控、过程放行、到配方剖析,涉及光刻胶、蚀刻液、电镀液、研磨液等多种材料分析需求。